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日本內閣會議決定「專利法等部分修法的法律案」

日本內閣會議於2008年2月1日決定「專利法等部分修法的法律案」，日本專利局預計該修法案將於年內通過國會審議，並於1年內施行。

具體修法內容分為下述五個項目：
（１）修改一般實施權等登記制度（專利法、實用新型法）
   ①為了保護於專利申請階段之授權而制定登記制度（藉由登記，授權人將對第三者具備對抗力）。
   ②關於專利權、實用新型權之一般實施權的登記項目中，保密需求高的登記項目（授權人之姓名等、一般實施權的範圍）的揭示僅限於一定的利害關係人。

（２）修改不服審判的申請期限（專利法、新式樣法、商標法）
   ①於專利制度中，將核駁審定不服審判（相當於台灣的再審查）的申請期間由現行的「30日以內」擴大為「3個月以內」。此外，能夠修正申請專利範圍的期間由現行的「審判申請後30日以內」變更為「僅可於審判申請之同時」。
   ②於新式樣制度及商標制度中，將核駁審定不服審判與修正駁回決定不服審判的審判申請期間由現行的「30日以內」擴大為「3個月以內」。

（３）擴大適用優先權文件電子方式交換的國家範圍（專利法、實用新型法）
關於優先權文件的電子資料，將不僅限於優先權文件的發行國，亦接受於其他的國家或者國際機關所電子化的優先權文件的資料。

（４）調降專利、商標相關費用（專利法、商標法）
   ①中小企業等負擔感加重的第10年以後的專利費用為重點調降目標（平均調降12％）。
   ②將相對於許多國家較高額、且中小企業等的利用比率高的商標的登記費用等調降。（平均調降43％）。

（５）導入帳戶轉帳方式之費用繳納制度
針對費用繳納，導入藉由銀行轉帳之繳納制度。

日本專利局網址：
http://www.jpo.go.jp/torikumi/kaisei/kaisei2/tokkyohoutou_kaiei_200201.htm

（2008年2月1日）