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日美同時授與專利 兩國政府新制度達成協議


 日本與美國兩國政府於日內瓦召開政府間協商會議,達成創設專利新制度的協議,亦即,於日、美申請的專利將於兩國幾乎同時完成審查並授與專利。在受理企業的申請而開始進行審查的階段,日本專利局與美國專利商標局將共享有關專利內容與審查資料等。事實上兩國正共同進行授與專利之架構的調整。

(2008年9月26日)
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