국내 의장 제도

의장권 취득 비용의 조성·감면 제도

의장권 취득 비용의 조성·감면 제도

특허청이나 각 지방 공공 단체에서는, 의장권을 취득하기 위한 비용의 조성을 실시하고 있습니다.

보조금을 받으려면 일정한 조건을 충족하고 외국 출원 전에 심사를 통과해야 합니다.

의장권 취득 비용의 조성을 희망하시는 경우에는, 이하보다 상세를 확인해 주세요.

질문등 있으시면, 특허청이나 각 지방 자치체에 문의해 주시는지, 당소까지 사양 없이 문의해 주세요.

특허청에 의한 조성 제도

2010년 중소기업 등 해외 출원·침해 대책 지원 사업비 보조금(중소 기업 등 외국 출원 지원 사업)

특허청이 전국 실시 기관을 통해 중소기업의 외국 출원 비용의 일부를 보조하는 제도입니다.

특허청 홈페이지: “외국 출원에 필요한 비용의 반액을 보조합니다”
(외부 링크) https://www.jpo.go.jp/support/chusho/shien_gaikokusyutugan.html

전국 실시 기관

・(독) 일본 무역 진흥 기구(제트로)가, 전국의 사업자로부터 신청을 수리합니다.

→제트로 홈페이지:https://www.jetro.go.jp/(외부 링크)

・지역 실시 기관에 대해서는, 상기 특허청 홈페이지에서 확인하실 수 있습니다.

외국의 조성 제도

<미국>

Small entity, Micro entity에 해당하면 출원 수수료·조사료·심사료가 감액됩니다.

(1) Small entity

이하의 ①②를 만족하고 소정의 수속을 실시한 경우, 출원 수수료 등이 50% 감액됩니다.

  • ①개인·소규모 사업체·비영리단체 중 어느 하나에 해당한다.
  • ②①에 해당하지 않는 기업 등에 현재 당해 발명(의장)에 관련된 권리를 양도 또는 라이센스하지 아니하고 계약 또는 법률에 의한 당해 발명(의장)에 관한 권리의 양도 또는 라이센스의무가 존재하지 아니한다.

 ※소규모 사업체에 해당하는지 여부에 대해서는 당사로 문의해 주십시오.

(2) Micro entity

이하의 A를 채워, 소정의 수속을 실시했을 경우, 출원 수수료등이 75% 감액됩니다.

A. 이하의 ①~④를 만족하는 개인 또는 단체

  • ①출원인이 (1)에 해당한다.
  • ②발명자(창작자)가 되어 있는 과거의 미국출원이 4건을 넘지 않는다.
  • ③본감면제도를 받아 요금을 지불하는 해의 전년에 있어서의 출원인 또는 발명자(창작자)의 총수입이 동년의 평균 세대수입의 3배를 넘지 않는다.
  • ④평균 가구수입의 3배를 넘는 총수입이 있는 단체 등에 현재 당해 발명(의장)에 관한 권리를 양도 또는 라이선스 등하고 있지 않고, 당해 발명(의장)에 관련된 권리를 양도 또는 라이선스 등한다 법률 또는 계약상의 의무가 존재하지 않는다.

상기 A에는 이하의 ①②를 만족하는 출원인이 포함됩니다.

  • ①출원인의 고용주가 미국 고등교육기관이며, 그 수입의 대부분을 당해 고용주로부터 얻고 있다.
  • ②출원인이 현재 당해 발명(의장)에 관련된 권리에 대하여 미국고등교육기관에 라이센스 또는 그 밖의 소유권을 양도·허락 등하고 있거나, 법률 또는 계약에 의거하여 해당 발명(의장)에 그러한 권리에 대해 미국 고등교육기관에 라이센스 또는 기타 소유권을 양도·허락 등할 의무가 존재한다.

※출원 시, 실제로 Small entity 또는 Micro entity에 해당하는지 여부는 당소의 제휴 ​​미국 대리인에게 확인할 수 있습니다.

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